基盤パレット洗浄乾燥槽
基盤パレット洗浄乾燥槽
基盤製作用のパレットを洗浄、乾燥を行う洗浄乾燥機を納入しました
ワーク：基盤パレット
ワーク寸法： 最大 400ｍｍｘ640ｍｍｘ60ｍｍ
洗浄方法：溶剤を使用した浸漬洗浄
乾燥方法：熱風発生機にて乾燥
処理量：１６枚/時間
装置サイズ：1100㎜ｘ1100㎜ｘ2250㎜（H）
詳細は弊社営業、技術へお問い合わせください。
ＨＰ運営／東光技研工業株式会社
基盤製作用のパレットを洗浄、乾燥を行う洗浄乾燥機を納入しました
ワーク：基盤パレット
ワーク寸法： 最大 400ｍｍｘ640ｍｍｘ60ｍｍ
洗浄方法：溶剤を使用した浸漬洗浄
乾燥方法：熱風発生機にて乾燥
処理量：１６枚/時間
装置サイズ：1100㎜ｘ1100㎜ｘ2250㎜（H）
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洗浄装置事例集 > 通い箱・パレット｜2017/06/06
